Благодаря постоянному развитию науки и техники технология плазменной очистки постепенно стала выбором новой эры для обработки поверхностей биомедицинского оборудования. Эта технология значительно повышает чистоту соответствующего оборудования за счет удаления поверхностных загрязнений и примесей. Суть плазменной очистки заключается в использовании высокочастотного напряжения для активации газа с целью получения сверхвысокоэнергетической плазмы, способной эффективно разлагать и удалять органические загрязнители с поверхности. р>
Активированные частицы плазмы, включая атомы, молекулы, ионы, свободные радикалы, митафазы и фотоны в коротковолновом ультрафиолетовом диапазоне, реагируют с любой поверхностью, помещенной в плазму. р>
Технология очистки основана на способности плазмы испускать фотоны при контакте с поверхностью, создавая характерное «свечение». Плазма, создаваемая разными газами, будет иметь разные цвета. Например, свечение кислородной плазмы имеет светло-голубой цвет. Плазма с использованием кислорода чрезвычайно эффективна и экологически безопасна, она эффективно разрушает химические связи органических загрязнений и очищает поверхности. р>
В этом процессе образуются формы кислорода (такие как O2+, O2-) . , O3 и т. д.) будут соединяться с органическими загрязнителями, образуя воду (H2O), углекислый газ (CO2) и Низкомолекулярные соединения углерода и водорода, эти конечные продукты разложения, выбрасываются наружу в ходе процесса, оставляя после себя сверхчистую поверхность. р>
Если обрабатываемый материал подвержен окислению, например, серебро или медь, его обычно обрабатывают аргоном или гелием. р>
Плазменная очистка — это не только физический процесс очистки, но и процесс введения высокореактивных с точки зрения материаловедения газов. Это вносит значительный вклад в улучшение эффекта очистки. В настоящее время эта технология применяется для очистки, дезинфекции и модификации материалов биомедицинского оборудования, что значительно улучшает функции и производительность многих устройств. р>
Плазменная очистка не только химически удаляет органические загрязнения, но и физически удаляет углеводороды с поверхности. Взаимодействуя с химически активными газами (такими как кислород и воздух), плазменная очистка способна быстро преобразовывать избыточные загрязнения в безвредные газы, гарантируя достижение поверхностью идеально чистого состояния. р>
Эти приложения включают удаление самоорганизующихся монослоев с золотых поверхностей, остаточных белков на медицинских устройствах и очистку наноэлектродов. р>
В области наук о жизни выживание, функционирование и пролиферация клеток зависят от их адгезии к микросреде. Технология плазменной очистки позволяет добавлять биологически значимые функциональные группы (такие как карбонильные, карбоксильные и аминогруппы) на поверхность материалов без использования химикатов, значительно улучшая биосовместимость и биоактивность материалов. р>
Плазменная очистка продемонстрировала широкий потенциал в таких областях применения, как культивирование клеток, тканевая инженерия и имплантация. р>
В материаловедении смачиваемость и модификация поверхности считаются одними из ключевых методов улучшения свойств материалов. Плазменная очистка может изменить химию поверхности материалов путем введения полярных функциональных групп, тем самым улучшая адгезию к покрытиям на водной основе, клеям, чернилам и эпоксидным смолам. р>
Конкретные области применения включают улучшение тепловой мощности графеновых пленок и работы выхода полимерных полупроводниковых гетероструктур. р>
Технология плазменной очистки также используется в микрофлюидных устройствах, которые могут применяться в широком спектре исследовательских приложений. Благодаря быстрому развитию и регулируемым свойствам материала PDMS плазменная очистка может обеспечить постоянное соединение микрофлюидных чипов PDMS со стеклянными предметными стеклами или другими слоями PDMS, образуя герметичные микроканалы. р>
Применение этой технологии включает разделение плазмы, секвенирование РНК отдельных клеток и долгосрочное удержание гидратации в микрофлюидных устройствах. р>
Плазмоника также может улучшить производительность солнечных элементов и фотоэлектрических устройств. Например, за счет снижения содержания оксида молибдена (MoO3) можно значительно увеличить плотность тока короткого замыкания, а также улучшить способность нанолистов диоксида титана к производству водорода и повысить проводимость PEDOT:PSS для достижения более эффективного ITO. -перовскитные солнечные элементы. р>
Технология плазменной очистки привлекает все больше внимания в современном производстве биомедицинского оборудования. Благодаря ее глубокому изучению в различных областях в будущем могут появиться более инновационные приложения. Станет ли эта технология неотъемлемой частью биомедицинских устройств? р>