薄膜体声共振器(FBAR或TFBAR)是一种由薄膜方法制造的压电材料装置,置于两个导电电极之间,并与周围介质声学隔离。 FBAR的工作原理是基于电极间压电层的压电效应。这些装置通常的厚度范围从数微米到十分之几微米,使其能够在100 MHz到20 GHz的频率范围内共振。 FBAR和TFBAR共振器属于体声共振器(BAW)和压电共振器的类别,广泛应用于对高频率、小尺寸(如厚度)和/或轻量化有需求的场景。
“FBAR设备在各种工业应用中表现出色,包括高频信号过滤(例如手机通讯设备)、晶体替代、能量收集、传感、声音发射(例如助听器中)以及作为机械量子位的一部分。 ”
薄膜的晶体取向取决于选择的压电材料以及薄膜生长所依赖的表面及各种制造条件(如温度、压力、气体等)。压电材料如钛酸铅(PZT)或锶钛酸钡(BST)皆可作为FBAR的活性材料。然而,氮化铝(AlN)和氧化锌(ZnO)是目前研究得最多的两种压电材料,主要因为这两种材料的化学组成更易于控制。这对于高频FBAR的实现至关重要。
“薄膜的晶体结构控制对FBAR的运作至关重要,尤其是在信号过滤等高频应用中,能量转换效率至关重要。”
FBAR共振器可在陶瓷(Al2O3或铝氧化物)、蓝宝石、玻璃或矽基板上制造,其中矽基板因其大规模生产的可扩展性和与半导体制造步骤的兼容性而被广泛使用。早在1967年,研究人员透过在石英晶体上蒸发硫化镉(CdS)来探索共振器,其共振频率可达279 MHz、Q因子达5000,这为更紧密的频率控制提供了可能。
“FBAR设备最常见的应用是无线应用中的射频过滤器,几乎每部2020年的智能手机都至少配备一个基于FBAR的过滤器。”
FBAR技术正在无线通信中发挥关键作用。借助频率超过1.5-2.5 GHz的FBAR设备,加强了功率处理能力和抵抗静电放电的能力,进一步巩固了其在射频前端电子产品中的地位。此外,FBAR可取代传统的晶体振荡器和过滤器,尤其是在高于100 MHz的频率范围内。其能量收集和传感器应用也在不断发展。
“FBAR技术的进步,使得相关设备不断微型化,成为电子产品中不可或缺的一部分。”
FBAR共振器的材料选择、结构布局与设计对于其性能影响深远。包括团队研究新型电极材料、更换其中金属电极以轻质材料如石墨烯等新策略,均有助于在减少共振器负载的同时提高共振频率的控制。未来的挑战包括材料间的有效耦合、振动模式的选择,以及如何在各种应用中最大限度地提高经过改良的FBAR性能。
随着FBAR技术不断进步,市场需求也在逐渐增加。广泛应用于移动通信、传感器、以及音频产品的FBAR技术,不仅改变了设备的设计思路,更促进了电子产品的微型化与高性能化。然而,随着技术的快速演进,我们又该如何评估FBAR所带来的新挑战与解决方案呢?