在化学中,矽烷(Silanes)是饱和化合物,具有通式 SixHy。矽烷属于氢矽烷类,是一类包含 Si−H 和其他 Si−X 键的化合物。所有矽烷均含有四面体结构的矽原子及末端氢原子,并只存在 Si−H 和 Si−Si 单键。
矽烷的结构是烷类的类似物,例如,最简单的矽烷是 SiH4,对应于甲烷(methane),接下来是 Si2H6(双矽烷,disilane),相当于乙烷(ethane)。这些化合物主要在理论或学术上受到关注,并不常见于日常应用。
「矽烷的简单异构体是没有分支的单链排列,这种称为n-异构体(即正常异构体)。而随着矽原子数的增加,可能的异构体数量急剧上升。」
根据矽原子的数量,常见的矽烷类色号系统如下:
「矽烷的命名方式是通过添加后缀 -silane 来对应数量前缀,故而形成如双矽烷、三矽烷等名称。」
1916年,科学家阿弗列德·斯托克(Alfred Stock)和卡尔·索米斯基(Carl Somiesky)进行了早期的研究。他们在这一领域的贡献不仅限于已知的单矽烷和双矽烷,还发现了更高成员的矽烷连锁结构。
他们记录了固相聚合矽氢化合物的形成,并以金属矽化物的水解作为合成方法之一,这产生了一系列矽烷化合物。然而,由于矽烷的热稳定性低于烷类,它们在萃取和分离过程中面临挑战。
矽烷的一个主要应用是微电子工业。在金属有机气相沉积(MOCVD)中,矽烷由热分解转化为矽,这一过程在半导体材料的制造中至关重要:
SiH4 → Si + 2 H2
「虽然矽烷在产业中的应用有限,但其在微电子技术中的重要性无可替代。」
矽烷与空气的混合物是爆炸性气体。特别是单矽烷与空气的比例在 1% - 98% 时,会形成危险的混合物。随着矽链长度的增加,其易燃性风险也随之提升,这在液态矽烷中尤为明显。
由于矽烷的密度略高于空气,而双矽烷和三矽烷则密度更高,这使得它们在地面或坑洞中可能会积聚,增加了潜在的危险。
IUPAC 命名法(国际纯粹与应用化学联合会)为矽烷的命名提供了一套系统。在命名时会根据氢矽链的结构来识别,无分支的饱和氢矽链根据希腊数字前缀和后缀 "-silane" 命名。
对于更复杂的分支矽烷,命名会依循以下步骤:
虽然这些命名方法使得矽烷的识别变得更为系统化,但随着链长增加,命名的繁琐性也随之提升。
未来的研究是否会揭示更多矽烷结构的潜力及其未来应用呢?