薄膜體聲共振器(FBAR或TFBAR)是一種由薄膜方法製造的壓電材料裝置,置於兩個導電電極之間,並與周圍介質聲學隔離。FBAR的工作原理是基於電極間壓電層的壓電效應。這些裝置通常的厚度範圍從數微米到十分之幾微米,使其能夠在100 MHz到20 GHz的頻率範圍內共振。FBAR和TFBAR共振器屬於體聲共振器(BAW)和壓電共振器的類別,廣泛應用於對高頻率、小尺寸(如厚度)和/或輕量化有需求的場景。
“FBAR設備在各種工業應用中表現出色,包括高頻信號過濾(例如手機通訊設備)、晶體替代、能量收集、傳感、聲音發射(例如助聽器中)以及作為機械量子位的一部分。”
薄膜的晶體取向取決於選擇的壓電材料以及薄膜生長所依賴的表面及各種製造條件(如溫度、壓力、氣體等)。壓電材料如鈦酸鉛(PZT)或鍶鈦酸鋇(BST)皆可作為FBAR的活性材料。然而,氮化鋁(AlN)和氧化鋅(ZnO)是目前研究得最多的兩種壓電材料,主要因為這兩種材料的化學組成更易於控制。這對於高頻FBAR的實現至關重要。
“薄膜的晶體結構控制對FBAR的運作至關重要,尤其是在信號過濾等高頻應用中,能量轉換效率至關重要。”
FBAR共振器可在陶瓷(Al2O3或鋁氧化物)、藍寶石、玻璃或矽基板上製造,其中矽基板因其大規模生產的可擴展性和與半導體製造步驟的兼容性而被廣泛使用。早在1967年,研究人員透過在石英晶體上蒸發硫化鎘(CdS)來探索共振器,其共振頻率可達279 MHz、Q因子達5000,這為更緊密的頻率控制提供了可能。
“FBAR設備最常見的應用是無線應用中的射頻過濾器,幾乎每部2020年的智能手機都至少配備一個基於FBAR的過濾器。”
FBAR技術正在無線通信中發揮關鍵作用。藉助頻率超過1.5-2.5 GHz的FBAR設備,加強了功率處理能力和抵抗靜電放電的能力,進一步鞏固了其在射頻前端電子產品中的地位。此外,FBAR可取代傳統的晶體振盪器和過濾器,尤其是在高於100 MHz的頻率範圍內。其能量收集和傳感器應用也在不斷發展。
“FBAR技術的進步,使得相關設備不斷微型化,成為電子產品中不可或缺的一部分。”
FBAR共振器的材料選擇、結構佈局與設計對於其性能影響深遠。包括團隊研究新型電極材料、更換其中金屬電極以輕質材料如石墨烯等新策略,均有助於在減少共振器負載的同時提高共振頻率的控制。未來的挑戰包括材料間的有效耦合、振動模式的選擇,以及如何在各種應用中最大限度地提高經過改良的FBAR性能。
隨著FBAR技術不斷進步,市場需求也在逐漸增加。廣泛應用於移動通信、傳感器、以及音頻產品的FBAR技術,不僅改變了設備的設計思路,更促進了電子產品的微型化與高性能化。然而,隨著技術的快速演進,我們又該如何評估FBAR所帶來的新挑戰與解決方案呢?