氧氣等離子體技術正迅速成為清潔和去除表面有機物的重要工具。這種技術不僅高效,而且環境友好,越來越多的行業開始採用它來提升產品的清潔度及其後續的使用效果。
氧氣等離子體的使用使得有機物的去除變得既經濟又有效。
等離子體清洗是一種通過動能高的等離子體或介電屏障放電(DBD)來清除污染物的技術。該過程一般使用氬氣、氧氣等氣體,或者它們的混合物。這種清洗技術的基本原理在於通過高頻電壓(通常在kHz至MHz範圍)來電離低壓氣體(通常低於一千分之一大氣壓的壓力),雖然如今全大氣壓等離子體的使用也越發普遍。
在等離子狀態下,氣體原子獲得較高的能量狀態並被電離。當這些原子和分子回落到它們的正常狀態時,會釋放出光子,這就是我們常見的等離子體“光輝”。不同的氣體可以產生不同的顏色,例如,氧氣等離子體會產生淡藍色的光輝。此外,等離子體中的活性物種包括原子、分子、離子、自自由基等,這些物種會與等離子體中的任何表面相互作用。
如果使用的氣體是氧氣,這種技術對於關鍵清洗是非常有效且經濟的。
氧氣等離子體能夠有效地斷裂有機物的化學鍵(如C–H、C–C、C=C、C–O和C–N),從而分解高分子量的污染物。氧氣等離子體中的活性氧物種(如O2+、O2−、O3、O、O+、O−等)則與有機污染物反應,生成水(H2O)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)及低分子量烴。這些副產物在處理過程中被有效排出,確保處理表面達到超潔淨的效果。
在某些情況下,如果待處理的部件由易氧化的材料(如銀或銅)組成,則會使用惰性氣體(如氬氣或氦氣)。這些活性氧物種的行為就像微小的沙噴槍,能夠打破有機污染物,並在過程中蒸發,隨之逃散的大部分副產品為小量氣體,如二氧化碳和水蒸氣,還含有少量的一氧化碳及其他烴類。
這種技術的成功與否往往會用接觸角度進行評估。當有機污染物存在時,水滴與材料的接觸角度會很高,而去除污染物後,接觸角將減少至接觸純基材所特有的值。用於分析表面清洗的技術還包括XPS(X-ray photoelectron spectroscopy)和AFM(atomic force microscopy),這些技術幫助確保清潔和殺菌的成功。
等離子體清洗正在快速成為生命科學、材料科學及能源領域的重要工具。
等離子體清洗在生物醫學和材料科學中也扮演著至關重要的角色。在生命科學中,細胞的生存能力、功能和增殖都受到其微環境的影響。等離子體常用作無化學物質的手段,能為材料表面引入生物學相關的功能基團(如羰基、羧基、氫氧基、胺等)。這不僅改善了材料的生物相容性或生物活性,還有效去除了污染蛋白質和微生物。因此,等離子體清洗成為細胞培養、組織工程和植入物等領域中不可或缺的工具。
在材料科學中,表面濕潤性和改性是提升材料性能的重要方法,且不影響材料的體積特性。等離子體清洗用於改變材料表面化學特性,引入極性功能基團,增強其對水性涂料、粘合劑、墨水和環氧樹脂的粘附性。此外,等離子體清洗還可應用於微流控設備中,這種設備的獨特之處在於環境的微小尺度,能有效地利用微或納米級流體流動技術。
對於太陽能電池和光伏技術來說,等離子體技術的應用能顯著提升轉換效能。
等離子體在太陽能電池及光伏裝置性能提升方面的應用也在日益增加。例如,減少氧化鉬(MoO3)可提升短路電流密度,對二氧化鈦(TiO2)納米片進行改性,可以改善氫氣生成的效率。活性等離子體在清潔及改進表面之間的完美結合,在支持美好未來的各種先進應用中展現了無盡的潛力。
上述數據和案例表明,氧氣等離子體在許多領域中的應用都顯示了其卓越的性能和潛力。然而,這種技術的未來發展潛力又將如何影響我們的生產方式和生活方式呢?