Is this you? Create Your Porfile
Avatar

Johann Steinmetz

GlobalFoundries

Network

Latest external collaboration on country level. Dive into details by clicking on the dots.

Explore More

Hotspot

Dive into the research topics where Johann Steinmetz is active.

Explore More

Publication

Featured researches published by Johann Steinmetz.

Archive | 2011

Method of Controlling Critical Dimensions of Trenches in a Metallization System of a Semiconductor Device During Etch of an Etch Stop Layer

Mohammed Radwan; Johann Steinmetz

Archive | 2010

SUPERIOR FILL CONDITIONS IN A REPLACEMENT GATE APPROACH BY CORNER ROUNDING BASED ON A SACRIFICIAL FILL MATERIAL

Jens Heinrich; Fernando Koch; Johann Steinmetz

Archive | 2012

Verfahren zum Steuern der kritischen Abmessungen von Gräben in einem Metallisierungssystem eines Halbleiterbauelements während des Ätzens einer Ätzstoppschicht

Mohammed Radwan; Johann Steinmetz

Archive | 2012

Verfahren zum Steuern kritischer Abmessungen von Kontaktdurchführungen in einem Metallisierungssystem eines Halbleiterbauelements während der Ätzung einer Si-Antireflektierungsschicht

Mohammed Radwan; Johann Steinmetz

Archive | 2011

Method of Controlling Critical Dimensions of Vias in a Metallization System of a Semiconductor Device During Silicon-ARC Etch

Mohammed Radwan; Johann Steinmetz

Archive | 2011

Verbessertes Füllverhalten in einem Austauschgateverfahren durch Eckenverrundung auf der Grundlage eines Opferfüllmaterials

Jens Heinrich; Fernando Koch; Johann Steinmetz

Archive | 2010

A method for controlling critical dimensions of trenches in a metallization of a semiconductor device during the etching of an etch stop layer

Mohammed Radwan; Johann Steinmetz

Archive | 2010

Verfahren zum Steuern der kritischen Abmessungen von Gräben in einem Metallisierungssystem eines Halbleiterbauelements während des Ätzens einer Ätzstoppschicht A method for controlling critical dimensions of trenches in a metallization system of a semiconductor device during the etching of an etch stop layer

Mohammed Radwan; Johann Steinmetz

Archive | 2010

Verfahren zum Steuern kritischer Abmessungen von Kontaktdurchführungen in einem Metallisierungssystem eines Halbleiterbauelements während der Ätzung einer Si-Antireflektierungsschicht A method for controlling critical dimensions of vias in a metallization system of a semiconductor device during the etching of Si Antireflektierungsschicht

Mohammed Radwan; Johann Steinmetz

Archive | 2010

A method for controlling critical dimensions of vias in a metallization system of a semiconductor device during the etching of a Si-Antireflektierungsschicht

Mohammed Radwan; Johann Steinmetz

Explore More

Collaboration

Dive into the Johann Steinmetz's collaboration.

Top Co-Authors
Avatar

Mohammed Radwan

GlobalFoundries

View shared research outputs
Top Co-Authors
Avatar

Fernando Koch

GlobalFoundries

View shared research outputs
Top Co-Authors
Avatar

Jens Heinrich

GlobalFoundries

View shared research outputs
Explore More
Researchain Logo
Decentralizing Knowledge