Language
Country/Area
No result found
С 2007 по 2008 год: как технология 45 нм меняет будущее производства микросхем?
Достижения в области технологий производства микросхем часто меняют облик целой отрасли, особенно когда так называемые «узлы технологического процесса» быстро развиваются в течение нескольких лет. С широким внедрением 45-нм техпроцесса в период с 2007 по 2008 год этот период стал поворотным моментом для полупроводниковой промышленности. От массового производства Matsushita и Intel до последующего развития AMD, коммерциализация этой новой технологии заложила основу нашей цифровой жизни.
45-нанометровый процесс знаменует собой значительный прогресс в технологии производства полупроводников, и этот прогресс окажет огромное влияние на будущие разработки.
В конце 2007 года компании Matsushita и Intel начали массовое производство 45-нанометровых чипов, а в 2008 году за ними последовала AMD. В ходе этого процесса многие компании, включая IBM, Mingbang, Samsung и Chartered Semiconductor, завершили разработку общей платформы 45-нм технологического процесса.
Заглядывая дальше, можно сказать, что внедрение этого процесса не только привело к технологическим инновациям, но и открыло множество новых возможностей на уровне приложений. В конце 2008 года китайская компания Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) стала первой китайской полупроводниковой компанией, применившей 45-нанометровую технологию, что еще раз продемонстрировало тенденцию глобализации этой технологии.
Размеры многих критических элементов меньше длины волны света, используемой для литографии, что вынуждает полупроводниковое сообщество изучать новые технологии для решения производственных задач.
Полупроводниковая промышленность претерпела колоссальные изменения в плане сложности, особенно в применении технологии литографии. Хотя длина волны света 193 нм все еще применима на данном этапе, было разработано множество технологий, направленных на уменьшение размера элементов, например, использование более крупных линз и внедрение технологии двойного шаблонирования. Появление этих новых технологий не только применимо к 45-нм техпроцессу, но и дополнительно стимулирует разработку более мелких технологических узлов в будущем.
С другой стороны, внедрение диэлектрических материалов с высоким значением κ в 45-нм процесс привлекло большое внимание со стороны производителей пластин. Несмотря на некоторые первоначальные трудности, в 2007 году IBM и Intel объявили, что освоили технологию и выпустили ее на рынок. Это важное событие означает, что концепция проектирования полупроводников претерпела существенные изменения, открыв новые возможности для будущего технологического развития.
Внедрение материалов с высоким коэффициентом пропускания не только помогает снизить плотность тока утечки, но и является инновационной мерой для всей конструкции транзистора.
По мере развития технологий все больше компаний начинают проводить демонстрации технологий. В 2004 году компания TSMC продемонстрировала 45-нанометровую ячейку SRAM площадью 0,296 квадратных микрометров, а в 2008 году быстро перешла на стадию 40-нанометрового процесса. Эти разработки не только демонстрируют эволюцию технологий, но и позволяют использовать 45-нм техпроцесс во многих популярных брендах, от Xbox до PlayStation 3, демонстрируя широкий потенциал применения этой технологии.
Коммерческое продвижение началось в 2007 году, когда компания Matsushita стала лидером в массовом производстве систем на кристалле (SoC) на основе технологии 45 нм. За этим последовал выпуск процессоров серии Xeon 5400 компанией Intel в ноябре 2007 года. Эти достижения ознаменовали собой дальнейшее воплощение закона Мура и воплощение мечты о высокопроизводительных вычислениях.
С появлением 45-нанометрового процесса плотность транзисторов достигла поразительных 3,33 миллиона транзисторов на квадратный миллиметр.
С постепенным продвижением 45-нм техпроцесса компания AMD в конце 2008 года также выпустила различные линейки своих 8-ядерных процессоров, еще больше расширив свое влияние на рынке. Нет сомнений в том, что технологические прорывы этого периода станут краеугольным камнем более высоких возможностей цифровой обработки в будущем. Это показывает, что отрасль производства микросхем продемонстрировала тесную взаимосвязь между технологическими инновациями и коммерциализацией, взаимосвязь, которая особенно очевидна в продвижении 45-нанометровой технологии.
Такая технологическая эволюция — это не только возможность для бизнеса, но и прелюдия к более эффективным и экологически чистым конструкциям микросхем в будущем. Какие инновации появятся в будущем, учитывая стремительный темп развития технологий производства микросхем, чтобы удовлетворить постоянно меняющиеся требования рынка?
