光學外差檢測是一種提取以電磁輻射的相位、頻率或兩者的調製所編碼的信息的方法。這項技術發展迅速,尤其在可見光或紅外光波長範圍內的應用。這一方法將信號光與來自“本地振盪器”的標準光進行比較,後者在頻率和相位上與信號光具有固定的偏移。與單頻率的同相檢測相比,“外差”則強調了多個頻率的應用。
自20世紀60年代以來,光學外差檢測已經開始受到研究,并且技術進步使其在各種領域獲得廣泛應用。
光學外差檢測的過程通常由一個光電二極體檢測器執行。這個檢測器的響應與能量成線性關係,因而與電磁場的幅度呈現二次方關係。當光信號的頻率接近時,探測器產生的差頻振盪在無線電或微波頻段,使其便於電子處理。從1990年代合成陣列外差檢測的發明開始,這種技術在拓撲和速度敏感成像領域變得愈加普遍。
1995年,Guerra發表的研究顯示,通過一種“光學外差技術”,他能夠檢測並成像一個比照明波長小得多的光柵。這項工作不僅使超分辨率顯微鏡的概念變為可能,還催生了“結構化照明顯微鏡”族的誕生。1997年,Guerra的發明獲得了Polaroid公司的專利,為光學檢測技術帶來了前所未有的變革。
對比光學外差檢測與無線頻率(RF)外差檢測的實際方面,最明顯的不同在於能量與電場的檢測問題。在RF檢測中,電磁場驅動著天線中電子的振盪運動。相比之下,在光學檢測中,光子通常是通過其能量吸收來檢測,而不是直接測量電場的相位。
因此,光學外差混合的主要目的是將信號下移到電子可處理的頻率範圍,這一點在RF檢測中並不需要。
另外一個明顯的區別是所需的信號與本地振盪器的帶寬。典型的RF本地振蕩器是一個純頻率,而在光頻信號中,即使是激光,也很難產生一個頻率穩定、帶寬合適的參考信號。因此,在光學外差檢測中,通常會選擇來自同一光源的信號和本地振蕩器來保持頻率差恆定。
隨著光學外差技術的建立,對於在低信號光強下的運作進行了深入探討。儘管光子可能在不同的(隨機)時刻以可計數的速率被檢測器吸收,仍然可以產生差頻信號。這表明光不僅僅在傳播過程中表現出波的性質,還在與物質互動時展現出類似的特性。
到2008年,即便信號強度增加,降低本地振盪器功率以使用光子計數檢測Beat信號的優勢仍然受到重視。
光學外差檢測的關鍵優勢之一是,在檢測過程中下混頻差頻的振幅有時甚至會大於原始信號的振幅。這能夠提高信號的可檢測性及其質量。
儘管光學外差檢測提供了多種技術惠益,但仍然存在一些挑戰。例如,在陣列光檢測中,由於信號的震蕩性,整體的檢測過程變得非常複雜。因此,傳統的數位相機影像傳感器在光學外差檢測中的應用受到限制。
為了解決這一問題,合成陣列外差檢測(SAHD)技術被開發出來,這使得在單一元件檢測器上進行大規模的檢測成為可能。
技術的進步不禁讓人期待未來光學外差檢測應用的廣闊前景,Guerra的這項技術不僅提高了生物科學的成像分辨率,也為多個科學領域提供了新的視角。那么,未來這一技術將會如何改變我們對微觀世界的理解?