Elisabeth Restrepo Parra

Bias voltage influence on the mechanical and tribological properties of titaniumaluminum nitride coatings produced by triode magnetron sputtering

TixAl1-xN coatings were grown using the triode magnetron sputtering technique with various bias voltages between -40 V and -150 V. As the bias voltage increased, an increase in the Al atomic percentage was observed, presenting a competition with Ti and producing structural changes. Moreover, the grain size and roughness were also strongly influenced by the bias voltage. It was observed that coatings with concentrations of approximately 25% Al and 75% Ti exhibited an optimum mixture of mechanical and tribological properties. The average coefÞcient of friction was low for the TiAlN coating that was grown at -40 V. Additionally, the critical load was obtained by measuring the adhesion using the scratch test.

Producción de películas delgadas de TIO2 obtenidas por la técnica de arco catódico

Peliculas delgadas de Dioxido de Titanio (TiO2) fueron crecidas usando deposicion fisica de vapor asistida por plasma (DFVAP) en un sistema de arco catodico a partir de un blanco de Ti. Para la produccion de las peliculas, dentro de la camara de reaccion se ubicaron dos electrodos enfrentados (blanco y sustrato) a una distancia inter-electrodica de 4 mm, la camara de reaccion se lleno con una mezcla de gases de argon y oxigeno hasta alcanzar la presion optima de trabajo (2 mbar). Las descargas se realizaron a partir de un circuito RLC, el cual permite hacer variaciones de voltaje inter electrodico de 0 a 300 voltios, con una corriente maxima de 300 amperios. Con GIXRD (Difraccion de Rayos X a Incidencia Rasante) se evaluaron las fases cristalinas, el coeficiente de textura, tamano del cristalito, micro deformacion y el parametro de red de las peliculas. Usando la ecuacion de Scherrer se determino el tamano del cristalito y la micro deformacion teniendo en cuanta el ensanchamiento instrumental del equipo de XRD, ademas, para el refinamiento Rietveld se empleo una funcion pseudo voigt. El analisis de GIXRD muestra la formacion de las fases rutilo y anatasa del TiO2, con estructura cristalina tetragonal y orientacion en los planos (210) y (004), (204) respectivamente. Por medio del analisis de Microscopia Electronica de Barrido (MEB) y espectroscopia de Energia Dispersiva de Rayos-X (EDX), micrografias y la composicion elemental de los recubrimientos fueron obtenidas. Usando μ-RAMAN se corroboro la presencia de las fases correspondientes al TiO2.

Conduction of fluids through porous parallel walls

A conducting fluid is continuously injected or ejected through a pair of parallel porous walls and it escapes in both directions along the channel. The flow forms a stagnation point at the center and the effluence is restricted by a magnetic field. A theoretical analysis of steady state solutions of the MHD equations in the incompressible case is given as a function of three parameters: the Reynolds number Re, the magnetic Reynolds number Rm and Alfvenic Mach number MA for some of significant asymptotic limits.

CARACTERIZACIÓN CON ESPECTROSCOPÍA ÓPTICA DE EMISIÓN DE UN PLASMA UTILIZADO EN LA PRODUCCIÓN DE RECUBRIMIENTOS DE TiO2

Por medio de espectroscopia optica de emision, se estudio un plasma utilizado en la produccion de recudimientos de TiO2. El sistema esta compuesto por una camara de vacio dentro de la cual se ubican los electrodos conformados por el material del blanco (titanio) y el sustrato (vidrio). La presion de trabajo fue de 1.7 mbar. en ambiente de oxigeno y el voltaje de la descarga fue de 300 V. estos espectros fueron tomados en un rango entre 250 y 800 nm. Se realizo una identificacion de las sustancias que se formaron en el plasma. Despues de identificar las diferentes transiciones, se procedio al calculo de la temperatura y la densidad del plasma, utilizando la relacion entre linea - continuo y entre lineas de diferente grado de ionizacion.