P.J. Arango

Producción de películas delgadas de TIO2 obtenidas por la técnica de arco catódico

Peliculas delgadas de Dioxido de Titanio (TiO2) fueron crecidas usando deposicion fisica de vapor asistida por plasma (DFVAP) en un sistema de arco catodico a partir de un blanco de Ti. Para la produccion de las peliculas, dentro de la camara de reaccion se ubicaron dos electrodos enfrentados (blanco y sustrato) a una distancia inter-electrodica de 4 mm, la camara de reaccion se lleno con una mezcla de gases de argon y oxigeno hasta alcanzar la presion optima de trabajo (2 mbar). Las descargas se realizaron a partir de un circuito RLC, el cual permite hacer variaciones de voltaje inter electrodico de 0 a 300 voltios, con una corriente maxima de 300 amperios. Con GIXRD (Difraccion de Rayos X a Incidencia Rasante) se evaluaron las fases cristalinas, el coeficiente de textura, tamano del cristalito, micro deformacion y el parametro de red de las peliculas. Usando la ecuacion de Scherrer se determino el tamano del cristalito y la micro deformacion teniendo en cuanta el ensanchamiento instrumental del equipo de XRD, ademas, para el refinamiento Rietveld se empleo una funcion pseudo voigt. El analisis de GIXRD muestra la formacion de las fases rutilo y anatasa del TiO2, con estructura cristalina tetragonal y orientacion en los planos (210) y (004), (204) respectivamente. Por medio del analisis de Microscopia Electronica de Barrido (MEB) y espectroscopia de Energia Dispersiva de Rayos-X (EDX), micrografias y la composicion elemental de los recubrimientos fueron obtenidas. Usando μ-RAMAN se corroboro la presencia de las fases correspondientes al TiO2.