Jhon Jairo Olaya-Flórez

Structural and morphological behavior of bismuth thin films grown through DC-magnetron sputtering

espanolEn este trabajo se depositaron peliculas delgadas de bismuto sobre sustratos de vidrio mediante la tecnica de sputtering con magnetron DC y se evaluaron los efectos de la temperatura del sustrato en la microestructura de las peliculas. El comportamiento estructural se analizo mediante difraccion de rayos X, mostrando una notable influencia de la temperatura del sustrato en el tamano de cristalito y microestres. La morfologia evaluada por medio de imagenes de la microsonda electronica, presento una leve diferencia en el tamano de grano con el incremento de la temperatura asi como un significativo incremento de la rugosidad superficial, segun medidas de perfilometria. EnglishBismuth thin films were grown onto glass substrates through the DC magnetron sputtering technique. The effects of substrate temperature on the microstructure of the films were evaluated. The structural behavior was analyzed via X-ray diffraction, and it showed a marked influence of the substrate temperature on the crystallite size and the micro-stress. The morphologies evaluated through Electron Probe Micro-analyzer images indicated a slight difference in the grain size with an increase in temperature as well as a significant increase in surface roughness, according to profilometer measurements.

Aplicación del modelo de control en espacios de estado a partir de las pérdidas totales obtenidas del porcentaje de carbono de la chapa de acero al silicio

Esta investigacion muestra los modelos de control en espacios de estado que representan un modelo matematico descrito mediante un conjunto de entradas, salidas y variables de estado relacionadas por ecuaciones diferenciales de primer orden, a partir de las perdidas totales obtenidas del porcentaje de carbono de la chapa de acero al silicio, con la cual se fabrican los nucleos de los transformadores de distribucion. El modelo propuesto permite evaluar las senales de corriente en el lado primario, secundario y de magnetizacion a partir de las perdidas totales, ajustando el valor del coeficiente de acoplamiento de la chapa de acero. La aplicacion de este traera ventajas a las empresas que fabrican o reparan estos equipos, ya que podran disenar la chapa de acero silicio bajo alguna condicion de falla versus valores nominales, tambien se puede presentar el modelo propuesto de forma canonica o natural: controlable, no observable y estable (COE).

Hysteresis loop behaviors of ferroelectric thin films： A Monte Carlo simulation study

The ferroelectric response of bismuth titanate Bi4Ti3O12 (BIT) thin film is studied through a Monte Carlo simulation of hysteresis loops. The ferroelectric system is described by using a Diffour Hamiltonian with three terms: the electric field applied in the z direction, the nearest dipole-dipole interaction in the transversal (x-y) direction, and the nearest dipole-dipole interaction in the direction perpendicular to the thin film (the z axis). In the sample construction, we take into consideration the dipole orientations of the monoclinic and orthorhombic structures that can appear in BIT at low temperature in the ferroelectric state. The effects of temperature, stress, and the concentration of pinned dipole defects are assessed by using the hysteresis loops. The results indicate the changes in the hysteresis area with temperature and stress, and the asymmetric hysteresis loops exhibit evidence of the imprint failure mechanism with the emergence of pinned dipolar defects. The simulated shift in the hysteresis loops conforms to the experimental ferroelectric response.