Toshihiko Katsura

Method of manufacturing a semiconductor device with improved electromigration resistance

Photolithographic method for manufacturing semiconductor wiring patterns

Sputtering chamber structure for high-frequency bias sputtering process

MULTI-LAYERED WIRING STRUCTURE OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE

Method of controlling metal thin film formation conditions

Method for detecting an end point of etching in semiconductor manufacture using the emission spectrum of helium

Semiconductor device having a multi-layered wiring structure.

Verfahren zur Herstellung einer Mehrlagenverdrahtung für Halbleiter-integrierte Schaltung A process for manufacturing a multilayer wiring for semiconductor integrated circuit

Verfahren zur Herstellung einer Mehrlagenverdrahtung für Halbleiter-integrierte Schaltung

Kathodenzerstäubungskammervorrichtung für hochfrequenzversorgte Kathodenzerstäubung. Kathodenzerstäubungskammervorrichtung of radio frequency powered sputtering.