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Enkisch Hartmut

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Featured researches published by Enkisch Hartmut.

Archive | 2009

Projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprising a device for the thermal manipulation of an optical element

Hauf Markus; Bleidistel Sascha; Migura Sascha; Mann Hans-Juergen; Enkisch Hartmut; Zellner Johannes; Schottner Michael; Kraehmer Daniel; Totzeck Michael; Dodoc Aurelian; Hetzler Jochen; Beierl Helmut; Ulrich Wilhelm

Archive | 2012

Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Herstellungsverfahren für einen solchen Spiegel, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv

Muellender Stephan; Enkisch Hartmut; Dier Oliver; Weber Joern

Archive | 2012

Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel

Muellender Stephan; Endres Martin; Enkisch Hartmut

Archive | 2009

Optical arrangement for use in projection exposure system for microlithography, has processing device determining thickness of contamination layer at point by processing output signal of optical sensor element

Enkisch Hartmut

Archive | 2009

Imaging optical system and projection exposure apparatus for microlithography comprising an imaging optical system of this type

Mann Hans-Juergen; Ulrich Wilhelm; Mullender Stephan; Enkisch Hartmut

Archive | 2005

EUV-Projektionsobjektiv sowie Verfahren zu dessen Herstellung

Mann Hans-Juergen; Muellender Stephan; Trenkler Johann; Enkisch Hartmut

Archive | 2012

Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives

Enkisch Hartmut; Muellender Stephan; Mann Hans-Juergen; Freimann Rolf

Archive | 2007

Arrangement for shading curved surface of a substrate, comprises substrate revolvably arranged around rotation axis with curved substrate surface, and triangular mask spaced from substrate surface for partially shading the substrate surface

Enkisch Hartmut

Archive | 2018

Projektionsoptik für die EUV-Projektionslithographie

Schwab Markus; Enkisch Hartmut; Schicketanz Thomas

Archive | 2015

Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

Enkisch Hartmut; Schicketanz Thomas; Kalisky Matus; Dier Oliver

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Collaboration

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Mann Hans-Juergen

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Muellender Stephan

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Dier Oliver

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Schicketanz Thomas

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Ulrich Wilhelm

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Beierl Helmut

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Bleidistel Sascha

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Dodoc Aurelian

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Endres Martin

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Freimann Rolf

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