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Publication
Featured researches published by Thomas Harold Newman.
SPIE's 1994 Symposium on Microlithography | 1994
Timothy A. Brunner; Alexander Lee Martin; Ronald M. Martino; Christopher P. Ausschnitt; Thomas Harold Newman; Michael S. Hibbs
A new lithographic test pattern, the focus monitor, is introduced. Through the use of phase shift techniques, focus errors translate into easily measurable overlay shifts in the printed pattern. Each individual focus monitor pattern can be directly read for the sign and magnitude of the focus error. This paper presents a detailed verification of the validity of this approach, along with several preliminary applications.
Archive | 1994
Marie Angelopoulos; Jeffrey D. Gelorme; Thomas Harold Newman; Niranjan M. Patel; David E. Seeger
Archive | 1994
Richard A. Ferguson; Lars W. Liebmann; Ronald M. Martino; Thomas Harold Newman
SPIE's 1994 Symposium on Microlithography | 1994
Lars W. Liebmann; Thomas Harold Newman; Richard A. Ferguson; Ronald M. Martino; Antoinette F. Molless; Mark O. Neisser; J. Tracy Weed
Archive | 1995
Marie Angelopoulos; Jeffrey D. Gelorme; Thomas Harold Newman; Niranjan M. Patel; David E. Seeger
Archive | 1997
Marie Angelopoulos; Jeffrey D. Gelorme; Thomas Harold Newman; Niranjan M. Patel; David E. Seeger; ドナルド ジェロルム ジェフリー; アール シージャー デイヴィッド; ハロルド ニューマン トーマス; モハンラル パテル ニランジャン; アンゲロポロス マリー
Archive | 1995
Richard A. Ferguson; Lars W. Liebmann; Ronald M. Martino; Thomas Harold Newman; トーマス・ハロルド・ニューマン; ラース・ウルフギャング・リーブマン; リチャード・アラン・ファーガソン; ロナルド・マイケル・マルティーノ
Archive | 1995
Richard A. Ferguson; Lars W. Liebmann; Ronald M. Martino; Thomas Harold Newman; トーマス・ハロルド・ニューマン; ラース・ウルフギャング・リーブマン; リチャード・アラン・ファーガソン; ロナルド・マイケル・マルティーノ
Archive | 1995
Richard A. Ferguson; Ronald M. Martino; Lars W. Liebmann; Thomas Harold Newman
Archive | 1995
Richard A. Ferguson; Ronald M. Martino; Lars W. Liebmann; Thomas Harold Newman