Klaus Feldner

Method of forming multi-level coplanar metal/insulator films using dual damascene with sacrificial flowable oxide

Bitline contacts in a memory cell array

Method for planarizing an isolating layer

Method for producing an insulation

Method for providing bitline contacts in a memory cell array and a memory cell array having bitline contacts

Method of executing dual damascene etching and method of forming via

Contacts de ligne binaire dans une matrice de cellules memoire

Verfahren zum Ausgleichen von unterschiedlichen Stufenhöhen und zum Herstellen von planaren Oxidschichten in einer integrierten Halbleiterschaltungsanordung A method for compensating for different stages and heights for producing planar oxide layers in an integrated Halbleiterschaltungsanordung

A process for the production of an insulation

Verfahren zur Herstellung einer Isolation