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Dive into the research topics where Seidl Harald is active.

Publication


Featured researches published by Seidl Harald.


Archive | 2002

Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung und Verwendung einer Ionenstrahlanlage zur Durchführung des Verfahrens

Goebel Bernd; Mol Peter; Seidl Harald; Gutsche Martin


Archive | 2001

Apparatus for depositing layers having atomic thickness on a substrate used in the semiconductor industry has a chamber wall arranged between two chamber regions to separate the chamber regions

Hecht Thomas; Gutsche Martin; Seidl Harald; Leonhardt Matthias


Archive | 2001

Grabenkondensator mit Isolationskragen und entsprechendes Herstellungsverfahren

Seidl Harald; Gutsche Martin


Archive | 2004

Verfahren zur Strukturierung keramischer Schichten auf Halbleitersubstanzen mit unebener Topographie

Seidl Harald; Gutsche Martin; Hecht Thomas; Jakschik Stefan; Kudelka Stephan; Schroeder Uwe; Schmeide Matthias


Archive | 2002

Semiconductor-memory-cell arrangement and its production method

Goebel Bernd; Luetzen Joern; Popp Martin; Seidl Harald


Archive | 2001

Grabenkondensator einer DRAM-Speicherzelle mit metallischem Collarbereich und nicht-metallischer Leitungsbrücke zum Auswahltransistor

Sell Bernhard; Saenger Annette; Gutsche Martin; Seidl Harald; Alsmeier Johann


Archive | 2006

Anschlusselektrode für Phasen-Wechsel-Material, zugehöriges Phasen-Wechsel-Speicherelement sowie zugehöriges Herstellungsverfahren

Seidl Harald


Archive | 2005

Herstellungsverfahren für einen Grabenkondensator mit einem Isolationskragen, der über einen vergrabenen Kontakt einseitig mit einem Substrat elektrisch verbunden ist, insbesondere für eine Halbleiterspeicherzelle

Kudelka Stephan; Saenger Annette; Seidl Harald; Popp Martin


Archive | 2002

Trench capacitor used in semiconductor memory cell includes dielectric layer based on silicon nitride with subsequent thermal and chemical treatments

Seidl Harald; Gutsche Martin; Hecht Thomas; Leonhardt Matthias


Archive | 2005

Verfahren zum Herstellen von dielektrischen Mischschichten und kapazitives Element und Verwendung derselben

Gutsche Martin Ulrich; Seidl Harald

Collaboration


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