Helmut Dr. Tews

Method for producing a spacer structure

Field effect transistor used as control transistor comprises a doped channel region, doped connecting regions, a control region, and an electrical insulating region arranged between the control region and the channel region

Verfahren zum Herstellen eines Feldeffekttransistors, Tunnel-Feldeffekttransistor und integrierte Schaltungsanordnung mit mindestens einem Feldeffekttransistor A method of manufacturing a field effect transistor, tunnel field-effect transistor and integrated circuit arrangement having at least one field effect transistor

Verfahren zum Herstellen eines Feldeffekttransistors, Feldeffekttransistor und integrierte Schaltungsanordnung A method of manufacturing a field effect transistor, field effect transistor and integrated circuit arrangement

A semiconductor device and manufacturing method thereof

Halbleiterbauelement sowie zugehöriges Herstellungsverfahren Semiconductor device and manufacturing method thereof

Feldeffekttransistor mit lokaler source-/drainisolation sowie zugehöriges herstellungsverfahren

Methods and structures to increase the structural density and the memory capacity in a semiconductor wafer

Verfahren und Strukturen zur Erhöhung der Strukturdichte und der Speicherkapazität in einem Halbleiterwafer

An etching process for increasing the structural size of main structures in a semiconductor substrate useful in semiconductor wafer production for increasing their structural density (thickness, sic) and storage capacity