Falk Graetsch

Technique for forming an oxide/nitride layer stack by controlling the nitrogen ion concentration in a nitridation plasma

Method of forming a low leakage dielectric layer providing an increased capacitive coupling

Method of forming a thin oxide layer having improved reliability on a semiconductor surface

Methods for producing a highly doped electrode for a field effect transistor

Verfahren zum Ausbilden von Seitenwandabstandhaltern

Method of forming layers of oxide of different thicknesses on a surface of a substrate

Verfahren zur Herstellung dünner Schichten durch einen thermisch aktivierten Prozess unter Anwendung eines Temperaturgradienten über das Substrat hinweg

Verfahren zur Einkapselung eines Gatestapels mit großem epsilon durch Bilden einer Beschichtung bei zwei unterschiedlichen Prozesstemperaturen

Procede de formation d'espaceurs de paroi laterale

Eine verbesserte Technik zur Herstellung eines Oxid/Nitrid-Schichtstapels durch Kompensieren von Stickstoffungleichförmigkeiten